2025年3月,中国科学院宣称全固态深紫外(DUV)激光技术已被成功研发出来。其运用Yb:YAG晶体放大器来产生1030nm的基频光,再借助四次谐波转换以及光学参数放大的方式生成193nm的紫外光,彻底摆脱了传统DUV光刻机所依赖的氟化氩(ArF)准分子激光技术,输出功率可达70mW,频率为6kHz。这一技术达成了三个颠覆性的突破:
性能达到国际顶尖水平:其193nm的波长和主流深紫外(DUV)光刻机的参数相同,能够为3nm芯片制造提供支持,从而避开阿斯麦(ASML)极紫外(EUV)光刻机的专利封锁。
产业链的自主可控性体现在:固态设计并不是特别需要稀有气体(像氩气、氟气),这就避开了美国针对气体供应链进行制裁所带来的风险,其整体体积缩减了30%,能耗也降低了40%。
技术的扩展潜能:首次制造出带有轨道角动量的涡旋光束,这给晶圆加工、缺陷检验测试开辟了新的途径,之后能够借助提升功率(计划在2026年达到20W)以及频率(朝着10kHz迭代)来接近商用的标准。
整机研发方面,尚未上市的上海微电子,其28纳米深紫外(DUV)光刻机已经运用国产光源,预计到2026年,产能会提升至每年50台。
核心逻辑为:在全世界内处于LBO/BBO晶体的领头羊,是中科院固态光源核心材料的供应者,其在全球的市场占有率超过80%。2025年第一季度的订单较同比增长了120%。
机构预计,到2025年净利润能达到8.2亿元,较同比增长65%,毛利率会保持在68%的较高水平。
核心逻辑为:光场匀化器进入ASML的供应链,固态光源的匀化精度能达到0.1nm,到2024年时半导体业务收入所占的比例会提升至40%。
业绩预期为:到2025年,营收将突破25亿元,净利润预计同比增长80%。
核心思路:5纳米刻蚀设备打入台积电的供应链体系,其和固态光源共同作用来提高光刻的精度,2024年新订单会增长百分之五十。
KrF光刻胶占据着62%的市场占有率,其28nm ArF胶已通过上海微电子的验证,并且得到了大基金二期10亿元的资金注入以扩大生产规模。
业绩预期:到2025年的时候,光刻胶所产生的收入在总体收入中的占比要超过50%,净利润与以往同期相比会实现翻倍增长。
PVD设备的国产化率已超越了30%,其与光刻胶涂布设备相配套,到2024年研发投入会增加45%,这是核心逻辑所在。
业绩预期:到2025年,半导体设备的收入会超过300亿元,毛利率将提高到42%。
核心思路为:前道的涂胶显影设备与国产光刻机相适配,这使得28nm工艺的验证周期缩减了一半,涂胶显影设备的国产化比例超过了50%,能够匹配固态光源工艺,在28nm时胶厚的均匀性可达到±0.5%。其客户包括中芯国际、华虹集团。
业绩预期为:到2025年的时候,出货量会超过200台,净利润与同期相比预计会增长120%。
光刻机的定位光栅精度能达到0.5纳米,国产的替代率会从20%提高到60%,到2024年的时候毛利率将提高到55%。
业绩展望:到2025年时,半导体业务的收入在总营收中的占比会超过35%,净利润将实现同比90%的增长。
光刻胶所用的光引发剂纯度达到99.99%,已经过合肥长鑫的验证,到2025年其产能会扩展至800吨/年。
业绩预期:到2025年,营收会实现同比85%的增长,净利率将提高至18%。
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