光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光灵敏的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层资料。半导体资料在外表加工时，若采取了恰当的有选择性的光检查概况>

  光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光灵敏的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层资料。半导体资料在外表加工时，若采取了恰当的有选择性的光检查概况

  本年初开端，美国再度要求荷兰、日本加强对光刻机等芯片设备的管控，中止对我国供应可用于7纳米的2000i等光刻机，乃至还要求ASML中止对已卖给我国的光刻机做修理，现在结果开端闪现。

  美国目的经过撮合日本和荷兰等国，影响全球芯片工业的开展，特别是荷兰的ASML独占着光刻机这种设备，更是成为美国的最大筹码，究竟美国掌握着光刻机的核心技术，ASML不得不遵从美国的叮咛，但是近期忽然传出的音讯却可能让美国的图谋幻灭

  台积电已发布了A16工艺（相当于1.6纳米）的技术参数，估计2026年量产，让人意外的是它决议选用现有的EUV光刻机，而不是选用ASML刚刚推出的2纳米EUV光刻机，这关于ASML来说无疑是一大冲击。

  市调组织Trendforce表明NAND flash芯片将从第三季度开端供应过剩，而DRAM芯片本年一季度就已呈现过剩，跟着芯片供应过剩，全球的芯片产能比赛将就此停步，这关于仅有光刻机的ASML来说将是严重冲击

  早前ASML还曾表明不忧虑我国光刻机企业的竞赛，近来国产光刻机企业上海光刻机就取得了4台光刻机的订单，显示出国产光刻机正一步步取得企业的认可，打破ASML在光刻机职业的独占位置。据悉上海积塔半导体在采

  全球最大的光刻机企业ASML表明DUV光刻机体系不需要向美国请求出口答应,它将向我国很多出售DUV光刻机,在我国树立合资工厂,强化与我国加强协作,这被视为它向我国开释好心。

  9日晚，微博博主 ＠GeekBar创始人磊哥 宣布微博，表明小米9的SoC没有封胶，并供给了明晰的图片，各大博主纷繁转发。一起在某论坛也有人证明了这件事。

  近来，有微博博主宣称魅族新品16s的SoC没有封胶办法，在网上引起了不小的争议。小编将要害时刻点的事情大致整理了一下，孰是孰非，就留给各位自己判别。

  近来，闻名的拆机、评测专业博主楼斌发视频曝光魅族16S在Soc（也便是处理器）上未封、点胶水。